砷剂有望局部治疗脑胶质瘤

由哈尔滨医科大学附属一院赵世光教授领衔完成的《砷剂对脑胶质瘤细胞影响的基因芯片研究及颅内缓释剂型的研发》，从动物试验角度证实三氧化二砷（As2O3）能诱导脑胶质瘤细胞凋亡；同时自主研制了As2O3脂质体缓释剂，在胶质瘤切除术后直接置入手术区域，实现了脑胶质瘤术后局部缓释化疗。该成果日前获得2009年黑龙江省医药卫生科技进步一等奖。

赵世光等在前期研究中发现，As2O3可抑制脑胶质细胞系U87MG和T98G的增殖。在此基础上，研究者在脑胶质瘤动物模型上证实As2O3以剂量依赖的方式抑制肿瘤细胞增殖并诱导凋亡。他们将As2O3制成粒径为0.25～1 μm的单层脂质体，使之更好地透过血脑屏障，提高脑内药物浓度。在接受As2O3脂质体治疗后的大鼠脑胶质瘤组织电镜切片中，可见肿瘤细胞出现细胞凋亡的典型改变，并呈现出明显的剂量-时间依赖性关系。

赵世光等采用直接压片法将As2O3与无毒性、无刺激性、具有良好生物相融性的新型降解缓释材料—乙交酯-丙交酯聚合物（PLGA）按比例制成As2O3脂质体缓释剂，于胶质瘤切除术后直接置入手术区域，使脑胶质瘤术后局部缓释化疗成为可能。

国内专家在评价该研究时指出，此项研究的成果拓展了As2O3的抗瘤谱及其药用价值，特别是着眼于脑胶质瘤的缓释化学治疗，具有独创性和广阔的临床应用前景。